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武汉一项专利从申请到授权仅用6天

2021-05-14 11:02:45 中国质量报

本报讯 (喻雅莹 黄 毅 记者 张 华)武汉精测电子集团股份有限公司及其子公司提交的一项外观设计专利,从专利申请到授权仅用了6天时间,创下武汉专利申请最快纪录。

专利的快速授权,得益于中国(武汉)知识产权保护中心最新开通了外观设计专利预审服务。

据了解,专利分为发明专利、实用新型专利和外观设计专利。4月底,中国(武汉)知识产权保护中心启动常态化受理外观设计专利预案申请,在光电子信息产业领域实现了3种类型专利快速预审服务的全覆盖。

武汉精测电子为半导体、显示以及新能源等测试领域提供产品及服务。企业的一种新产品即将上市,急需申请外观设计专利,没有专利保护,一旦上市,可能面临产品外观被大量仿冒的问题。

在武汉东喻专利代理事务所的帮助下,这件外观设计专利申请经中国(武汉)知识产权保护中心预审合格后,4月25日向国家知识产权局提交申请,4月30日就获得了国家授权发文,前后仅用6天时间。

据最新数据,外观设计专利平均审查周期为4个月,相比之下,经该保护中心预审服务的外观设计专利,审查周期大大缩减。

近年来,武汉积极推进中国(武汉)知识产权保护中心这一国家级知识产权公共服务平台建设,极大缩短了光电子信息企业创新成果专利授权周期,审查周期整体压缩了70%,为助力光电子信息产业高质量发展、打造全国一流营商环境提供了有力支撑。

《中国质量报》新闻快讯

(责任编辑:水川)
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